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新聞資訊
紅外電子新品研發(fā)方案誕生啦
時間:2016-05-21 14:51:52
 日立高新技術(shù)與日立國際八木解決方案公司開發(fā)出了戴在頭部,利用近紅外光的非侵襲式腦活動測量計“可穿戴式光Topography”系列的新產(chǎn)品“WOT-HS”,有頭發(fā)亦可測量。設(shè)想在日常環(huán)境下測量腦活動,用于分析腦功能等研究用途。

  新產(chǎn)品開發(fā)了內(nèi)置信號處理器和傳感器等的小型膠囊單元,并使其可逐個處理,從而大幅削減了信號線纜的使用量。由此,將傳感器數(shù)量由原機(jī)型的16個增至35個,不但擴(kuò)大了測量范圍,重量也減輕了約25%。并且,最大限度抑制了頭戴式設(shè)備表面的信號線纜暴露,采用完全不使用光纖的結(jié)構(gòu),佩戴方便性提高。

  小型膠囊單元采用雪崩光電二極管接收近紅外光。提高了受光靈敏度,使得頭發(fā)部位也可測量。除了與原機(jī)型相同的前額部位以外,在有頭發(fā)的側(cè)頭部也配置了小型膠囊單元,可以測量與聽覺等有關(guān)的腦活動。

  另外,測量方式可以切換為能降低皮膚血流等人體噪聲的多距離(Multi-Distance)方式。此外,導(dǎo)入了利用小型膠囊單元上部設(shè)置的LED,顯示頭戴式設(shè)備佩戴狀態(tài)的功能,提高了用戶的便利性。

  日立高新技術(shù)預(yù)定2016年度中期開始供貨該產(chǎn)品。并將在2016年3月7~8日于京都大學(xué)桂校區(qū)(京都府京都市)舉行的“第18屆人腦功能Mapping學(xué)會”上展示。日立高新技術(shù)與日立國際八木解決方案稱,今后計劃開發(fā)除前額部和側(cè)頭部外,還可測量頭頂部位的裝置。

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